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電解去離子水設(shè)備
去離子水設(shè)備主要采用預處理、反滲透技術(shù)、EDI、混床、拋光床等工藝流程,能將水中的導電介質(zhì)幾乎全部取出,又能將水中不離解膠體物質(zhì)、氣體和有機物去除。適用于電子光電、化工冶金、電廠鍋爐、電鍍涂裝行業(yè);精密機械、汽車工業(yè)及醫(yī)藥純化水等行業(yè)。
去離子水設(shè)備工藝流程
去離子水設(shè)備技術(shù)原理
EDI (連續(xù)電解除鹽技術(shù)) :是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù),除鹽率高達99%,可以生產(chǎn)出電阻率高達15MΩ. CM以上的超純水。
FEDI:獨立的分段設(shè)計,進水要求低,產(chǎn)水電導率40us/cm以下既可以滿足供水要求,產(chǎn)水導電率可達0. 1us/cm以下,濃水可回收至反滲透系統(tǒng),綜合回收率高達90%-95%。
拋光混床:一般情況用在工藝末端,用來進一步提高產(chǎn)水水質(zhì)。采用高交換容量、充分再生、無化學析出的核子級樹脂,去除純水中殘余的微量帶電離子及弱電解質(zhì),使水質(zhì)達到18MΩ. CM以上。
去離子水處理設(shè)備特性
1、產(chǎn)水水質(zhì)高,出水穩(wěn)定,連續(xù)不間斷制水,不因再生而停機
2、自動化程度高,遇故障立即自停,具有自動保護功能
3、先進的膜保護系統(tǒng),可自動沖洗,延長膜使用壽命,能耗低,水利用率高,運行費用及維修成本低
4、去離子水設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,節(jié)省基建投資
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